Positive Resistzusammensetzung und Verfahren zur Strukturformung damit

EP1703322 Art A3 24. März 2010

Anmelder: FUJIFILM Corporation, FUJI PHOTO FILM CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1703322
Aktenzeichen
EP06005356
Anmeldetag
16. März 2006
Veröffentlichung
24. März 2010
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/004G03F7/039
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
FUJIFILM Corporation
FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

12.204 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, ursprünglich als Fuji Photo Film gegründet, heute aktiv in Fotografie, Bildgebung, medizinischer Diagnostik und Spezialchemie.

1.748 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Vertreten von

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen