Zusammensetzung zur Bildung einer Antireflexschicht, Laminat und Verfahren zur Bildung einer Resiststruktur
EP1703327
Art B1
11. Mai 2011
Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1703327
- Aktenzeichen
- EP06111200
- Anmeldetag
- 15. März 2006
- Veröffentlichung
- 11. Mai 2011
- Erteilung
- 11. Mai 2011
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/09
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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