Dampfwachstum-Einrichtung und Herstellungsverfahren für einen Epitaxialwafer
EP1703549
Art A1
20. September 2006
Anmelder: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd., SHIN-ETSU HANDOTAI COMPANY LIMITED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1703549
- Aktenzeichen
- EP04820494
- Anmeldetag
- 18. November 2004
- Veröffentlichung
- 20. September 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C30B25/14H01L21/205
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Shin-Etsu Handotai Co., Ltd.
SHIN-ETSU HANDOTAI COMPANY LIMITED - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Handotai
Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.
1.022 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Merkle, Gebhard
München, Deutschland
721
Patente gesamt
32
Fachgebiete
9
Anmelder-Länder
Schwerpunkte