Vorrichtung und Verfahren zur Optischen Vermessung eines Optischen Systems, Messstrukturträger und Mikrolithographie-Projekti Onsbelichtungsanlage
EP1704445
Art A2
27. September 2006
Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1704445
- Aktenzeichen
- EP05700815
- Anmeldetag
- 12. Januar 2005
- Veröffentlichung
- 27. September 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Carl Zeiss SMT AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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Fachgebiete
Vertreten von
Weller, Erich W
Stuttgart, Deutschland
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5
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