Verfahren und Vorrichtung zum Reinigen von Halbleiterwafern durch Verwendung Komprimierter Und/oder unter Druck Stehender Schäume, Blasen Und/oder Flüssigkeiten

EP1704584 Art A1 27. September 2006

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1704584
Aktenzeichen: EP04814960
Anmeldetag: 17. Dezember 2004
Veröffentlichung: 27. September 2006
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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