Zusammensetzung zur Bildung eines Isolierfilms, Herstellungsverfahren Dafür, Siliciumdioxid-Isolierfilm, und Herstellungsverfahren dafür

EP1705208 Art B1 20. März 2013

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1705208
Aktenzeichen: EP05703613
Anmeldetag: 14. Januar 2005
Veröffentlichung: 20. März 2013
Erteilung: 20. März 2013
Rechtsraum: EP
IPC: C09D183/14B05D5/12B05D7/24C08G77/50C09D5/25C09D7/12C09D183/02C09D183/04C09D183/08H01B3/46H01L21/312C08L83/14H01B3/30C08G77/48// C08G77/60

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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