Einrichtung zur Bildung einer Metallhinterschicht

EP1705679 Art A1 27. September 2006

Anmelder: Kabushiki Kaisha Toshiba, Kabushi Kaisha Toshiba 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1705679
Aktenzeichen
EP04807654
Anmeldetag
24. Dezember 2004
Veröffentlichung
27. September 2006
Rechtsraum
EP
IPC
H01J9/22H01J29/28H01J9/20
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
Kabushiki Kaisha Toshiba
Kabushi Kaisha Toshiba
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Toshiba

Japanischer Konzern, der Elektronik, Halbleiter, Energie- und Infrastrukturtechnik sowie Industrieanlagen entwickelt und herstellt.

13.647 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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