Entwicklungseinrichtung und Entwicklungsverfahren
EP1708252
Art A1
4. Oktober 2006
Anmelder: Tokyo Electron Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1708252
- Aktenzeichen
- EP04807773
- Anmeldetag
- 24. Dezember 2004
- Veröffentlichung
- 4. Oktober 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/30H01L21/00H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tokyo Electron Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München