Positiv-Resistzusammensetzung und Verfahren zur Ausbildung einer Resiststruktur
EP1710628
Art B1
3. Juli 2013
Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1710628
- Aktenzeichen
- EP05703590
- Anmeldetag
- 14. Januar 2005
- Veröffentlichung
- 3. Juli 2013
- Erteilung
- 3. Juli 2013
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/039H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Ohka Kogyo
Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.
927 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Hart-Davis, Jason
Paris, Frankreich
1.276
Patente gesamt
31
Fachgebiete
23
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Portal, Gérard
NoneParis