Verfahren zur Herstellung von Siliziumfilmen
EP1715509
Art B1
24. August 2011
Anmelder: JSR Corporation, SEIKO EPSON CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1715509
- Aktenzeichen
- EP06076494
- Anmeldetag
- 29. März 2000
- Veröffentlichung
- 24. August 2011
- Erteilung
- 24. August 2011
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/208C01B33/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- JSR Corporation
SEIKO EPSON CORPORATION - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
1.781 Patente in unserer Datenbank
🇯🇵
Epson
Japanisches Unternehmen, das Drucker, Scanner, Projektoren sowie Uhrwerke und Sensortechnik entwickelt und herstellt.
7.261 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Cloughley, Peter Andrew
London, Großbritannien
836
Patente gesamt
32
Fachgebiete
8
Anmelder-Länder
Schwerpunkte