Substratreinigungsflüssigkeit für ein Halbleiterbauelement und Reinigungsverfahren
EP1715510
Art B2
24. Februar 2016
Anmelder: Mitsubishi Chemical Corporation, MITSUBISHI CHEMICAL CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1715510
- Aktenzeichen
- EP05709641
- Anmeldetag
- 2. Februar 2005
- Veröffentlichung
- 24. Februar 2016
- Erteilung
- 24. Februar 2016
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/304
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Mitsubishi Chemical Corporation
MITSUBISHI CHEMICAL CORPORATION - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, Teil der Mitsubishi-Chemical-Gruppe. Das Unternehmen entwickelt Grund- und Spezialchemikalien, Kunststoffe, Materialien für Elektronik und Energiespeicher sowie Pharma- und Life-Science-Produkte.
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Vertreten von
ter Meer, Nicolaus
München, Deutschland
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Ter Meer Steinmeister & Partner
Ter Meer Steinmeister & Partner · München