Polymerverbindung, Photoresistzusammensetzung mit einer Derartigen Polymerverbindung und Verfahren zur Ausbildung einer Resiststruktur
EP1717261
Art B1
1. Januar 2014
Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1717261
- Aktenzeichen
- EP05709454
- Anmeldetag
- 28. Januar 2005
- Veröffentlichung
- 1. Januar 2014
- Erteilung
- 1. Januar 2014
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C08G85/00G03F7/039H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Ohka Kogyo
Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.
927 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Hart-Davis, Jason
Paris, Frankreich
1.276
Patente gesamt
31
Fachgebiete
23
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Portal, Gérard
NoneParis