Sputtertarget, Optisches Informationsaufzeichnungsmaterial und Herstellungsverfahren dafür
EP1717335
Art A1
2. November 2006
Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation, Nippon Mining & Metals Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1717335
- Aktenzeichen
- EP04748059
- Anmeldetag
- 29. Juli 2004
- Veröffentlichung
- 2. November 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/34C04B35/457G11B7/24G11B7/26
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- JX Nippon Mining & Metals Corporation
Nippon Mining & Metals Co., Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JX Nippon Mining & Metals
JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.
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Vertreten von
Hoarton, Lloyd Douglas Charles
München, Deutschland
1.651
Patente gesamt
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