Spektraler Reinigungsfilter für einen mehrschichtigen Spiegel, lithografische Vorrichtung mit einem derartigen mehrschichtigen Spiegel, Verfahren zur Vergrößerung des Verhältnisses von erwünschter und unerwünschter Strahlung sowie Geräteherstellungsverfahren
EP1717609
Art B1
11. April 2012
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1717609
- Aktenzeichen
- EP06113136
- Anmeldetag
- 26. April 2006
- Veröffentlichung
- 11. April 2012
- Erteilung
- 11. April 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G02B5/08G02B1/10G03F7/20B82Y10/00G21K1/06G02B5/28
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Slenders, Petrus Johannes Waltherus
Eindhoven, Niederlande
244
Patente gesamt
17
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Slenders, Petrus J. W
NoneEindhoven
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
van Westenbrugge, Andries
NoneDen Haag