Bauelementeherstellungsverfahren und Substrat mit Strahlungsempfindlichem Material
EP1719157
Art A2
8. November 2006
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1719157
- Aktenzeichen
- EP05707571
- Anmeldetag
- 22. Februar 2005
- Veröffentlichung
- 8. November 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/28H01L21/285G03F7/004G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Weenink, Willem
Veldhoven, Niederlande
78
Patente gesamt
4
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
Jackson, Martin Peter
NoneLondon