Gate-Elektroden-Dotierungsstoff-Aktivierungsverfahren für die Halbleiterherstellung
EP1719158
Art A1
8. November 2006
Anmelder: Applied Materials, Inc., APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1719158
- Aktenzeichen
- EP05722937
- Anmeldetag
- 10. Februar 2005
- Veröffentlichung
- 8. November 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/28H01L21/268H01L21/324
Abstract
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Anmelder
- Firmen
- Applied Materials, Inc.
APPLIED MATERIALS, INC. - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
10.783 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Setna, Rohan P
London, Großbritannien
754
Patente gesamt
34
Fachgebiete
23
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Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Bayliss, Geoffrey Cyril
NoneLondon