Ersatz-Gate-Fluss zur Ermöglichung einer Hohen Ausbeute und Integration von Ätzstoppschichten Und/oder Verspannten Filmen
EP1719163
Art B1
17. Dezember 2014
Anmelder: Intel Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1719163
- Aktenzeichen
- EP04816054
- Anmeldetag
- 24. Dezember 2004
- Veröffentlichung
- 17. Dezember 2014
- Erteilung
- 17. Dezember 2014
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L29/66H01L29/78
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Intel Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Intel
US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.
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Vertreten von
Beresford, Keith Denis Lewis
London, Großbritannien
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