Polymer und Herstellungsverfahren Dafür, Zusammensetzung zur Bildung eines Isolierfilms und Herstellungsverfahren dafür

EP1719793 Art A1 8. November 2006

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1719793
Aktenzeichen: EP05719195
Anmeldetag: 16. Februar 2005
Veröffentlichung: 8. November 2006
Rechtsraum: EP
IPC: C08G77/48C08L83/14C09D183/14H01B3/46H01L21/312

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

1.781 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik

Vertreten von