Sputtertarget, Optisches Informationsaufzeichnungsmaterial und Herstellungsverfahren dafür
EP1719822
Art A1
8. November 2006
Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation, Nippon Mining & Metals Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1719822
- Aktenzeichen
- EP05709335
- Anmeldetag
- 26. Januar 2005
- Veröffentlichung
- 8. November 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/34G11B7/26G11B7/24C04B35/505C04B35/488
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- JX Nippon Mining & Metals Corporation
Nippon Mining & Metals Co., Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JX Nippon Mining & Metals
JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.
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Vertreten von
Hoarton, Lloyd Douglas Charles
München, Deutschland
1.651
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