Eingebettete Ätzstoppschicht für Phasenschiebermasken sowie ebene Phasenschiebermasken zur Reduktion von Wellenleitereffekten und topografiebedingten Effekten
EP1720061
Art A3
20. Juni 2007
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1720061
- Aktenzeichen
- EP06015014
- Anmeldetag
- 9. Januar 2004
- Veröffentlichung
- 20. Juni 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/00G03F1/14
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Vertreten von
Weenink, Willem
Veldhoven, Niederlande
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Van den Hooven, Jan
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Leeming, John Gerard
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