Nickelbeschichtete Freistehende Siliziumcarbidstruktur zur Wahrnehmung von Fluor- oder Halogenspezies in Halbleiterprozessierungssystemen sowie Verfahren zur Herstellung und Verwendung davon
Anmelder: ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1721143
- Aktenzeichen
- EP05723491
- Anmeldetag
- 23. Februar 2005
- Veröffentlichung
- 15. November 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G01N9/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
Der Anmelder ist ein US-amerikanischer Hersteller von Spezialchemikalien und Materialien für die Halbleiterindustrie, bekannt als ATMI, inzwischen Teil von Entegris. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und Elektrobauelemente sowie auf Verfahrens- und Trenntechnik, Metallurgie und Verpackungstechnik. Anmeldungen laufen seit dem Jahr 2000 durchgehend fort.
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Fachgebiete
Aus der Kanzlei Sonnenberg Fortmann hervorgegangen, Teil der internationalen 24IP Law Group mit Büros in Berlin, London, Paris und den USA. Deckt neben Patenten auch Markenrecht, das Einheitliche Patentgericht sowie Datenschutz ab.