Verwendung einer H2 oder H2 und O2 undurchlässigen Schicht zum Beschichten in der Glasherstellung

EP1722008 Art B1 11. März 2015

Anmelder: Schott AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1722008
Aktenzeichen: EP06016886
Anmeldetag: 29. November 2001
Veröffentlichung: 11. März 2015
Erteilung: 11. März 2015
Rechtsraum: EP
IPC: C23C30/00C03B5/167C03B40/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Schott AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 SCHOTT

Deutsches Technologieunternehmen mit Sitz in Mainz, spezialisiert auf Spezialglas und Glaskeramik für Pharma-, Optik-, Elektronik- und Haushaltsanwendungen.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik

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