Metalllegierung mit niedriger Arbeitsfunktion
Anmelder: Interuniversitair Microelektronica Centrum (IMEC), Texas Instruments Incorporated, IMEC, NATIONAL UNIVERSITY OF SINGAPORE, TEXAS INSTRUMENTS INCORPORATED, INTERUNIVERSITAIR MICROELEKTRONICA CENTRUM vzw (IMEC) 🇧🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1722404
- Aktenzeichen
- EP06113814
- Anmeldetag
- 11. Mai 2006
- Veröffentlichung
- 15. August 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/28H01L29/49H01L21/265
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Interuniversitair Microelektronica Centrum (IMEC)
Texas Instruments Incorporated
IMEC
NATIONAL UNIVERSITY OF SINGAPORE
TEXAS INSTRUMENTS INCORPORATED
INTERUNIVERSITAIR MICROELEKTRONICA CENTRUM vzw (IMEC) - Land
- 🇧🇪 Belgien
US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Dallas (Texas). Entwickelt und fertigt analoge und eingebettete Halbleiterprodukte, Prozessoren sowie Schaltkreise für Industrie, Automobil- und Konsumelektronik.
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