Filmerzeugungsverfahren

EP1722405 Art A1 15. November 2006

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1722405
Aktenzeichen: EP05703623
Anmeldetag: 14. Januar 2005
Veröffentlichung: 15. November 2006
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/285C23C16/34C23C16/52H01L21/28H01L21/768H01L21/8242H01L27/108

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.253 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von