Plasmaverarbeitungsverfahren und Computerspeichermedium
EP1722406
Art A1
15. November 2006
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1722406
- Aktenzeichen
- EP05719803
- Anmeldetag
- 2. März 2005
- Veröffentlichung
- 15. November 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/318H01L29/78
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO ELECTRON LIMITED
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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Fachgebiete
Vertreten von
Hoffmann, Klaus
München, Deutschland
108
Patente gesamt
27
Fachgebiete
11
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Schwerpunkte
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-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München