Aus Synthetischem Quarzglas Hergestelltes Photomaskensubstrat und Photomaske
EP1723470
Art A1
22. November 2006
Anmelder: Asahi Glass Company, Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1723470
- Aktenzeichen
- EP05720533
- Anmeldetag
- 4. März 2005
- Veröffentlichung
- 22. November 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/14G03F7/20C03C3/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Asahi Glass Company, Limited
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
AGC (Asahi Glass)
Japanischer Glas- und Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, früher als Asahi Glass Company firmierend. AGC entwickelt Flachglas, elektronische Materialien, Spezialchemikalien sowie Glasprodukte für Automobil-, Bau- und Elektronikindustrie.
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