Lithographischer Projektionsapparat und Methode zur Belichtung eines Halbleiterwafers mit dem Muster einer Maske

EP1724641 Art A1 22. November 2006

Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1724641
Aktenzeichen: EP05010968
Anmeldetag: 20. Mai 2005
Veröffentlichung: 22. November 2006
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Infineon Technologies AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Infineon Technologies

Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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