Zweiflüssigkeits-Düse zum Reinigen eines Substrats und Substratreinigungseinrichtung
EP1724820
Art B1
25. Juli 2012
Anmelder: Tokyo Electron Limited, Tokyo Electron Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1724820
- Aktenzeichen
- EP05720344
- Anmeldetag
- 9. März 2005
- Veröffentlichung
- 25. Juli 2012
- Erteilung
- 25. Juli 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B05B7/04B08B3/02B01F3/04H01L21/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Tokyo Electron Limited
Tokyo Electron Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München