Durch einen Laser mit Hoher Wiederholungsraten Produzierte Plasma-Euv-Lichtquelle

EP1726028 Art B1 21. Mai 2014

Anmelder: Cymer, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1726028
Aktenzeichen: EP05724572
Anmeldetag: 3. März 2005
Veröffentlichung: 21. Mai 2014
Erteilung: 21. Mai 2014
Rechtsraum: EP
IPC: H05G2/00G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Cymer, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Optik & Fototechnik

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