Schichtsystem für siliziumhaltige Substrats
EP1726681
Art B1
5. Mai 2010
Anmelder: United Technologies Corporation, UNITED TECHNOLOGIES CORPORATION 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1726681
- Aktenzeichen
- EP06251493
- Anmeldetag
- 21. März 2006
- Veröffentlichung
- 5. Mai 2010
- Erteilung
- 5. Mai 2010
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C16/00C23C16/06C23C16/22C23C16/30C23C16/32C23C16/34C23C16/40
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- United Technologies Corporation
UNITED TECHNOLOGIES CORPORATION - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
RTX Corporation
US-amerikanischer Luft- und Raumfahrt- sowie Verteidigungskonzern, entstanden aus Raytheon und United Technologies. Entwickelt und fertigt Triebwerke, Avionik, Radarsysteme, Raketen- und Verteidigungstechnik für zivile und militärische Kunden.
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Leckey, David Herbert
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