Optisches Element für Strahlung im EUV- und/oder weichen Röntgenwellenlängenbereich und ein optisches System mit mindestens einem optischen Element
EP1727158
Art A3
2. Juli 2008
Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1727158
- Aktenzeichen
- EP06010729
- Anmeldetag
- 24. Mai 2006
- Veröffentlichung
- 2. Juli 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G21K1/06G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Carl Zeiss SMT AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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Fachgebiete
Vertreten von
Werner, Anne-Estelle
Münster, Deutschland
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Fuchs Mehler Weiss & Fritzsche
Fuchs Mehler Weiss & Fritzsche · Wiesbaden