Beschichtungsverfahren mit atomaren Schichten (ald) zum Erzeugen einer Schicht hoher Qualität
EP1728894
Art B1
15. Oktober 2008
Anmelder: IMEC, INTERUNIVERSITAIR MICROELEKTRONICA CENTRUM ( IMEC) 🇧🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1728894
- Aktenzeichen
- EP06114855
- Anmeldetag
- 1. Juni 2006
- Veröffentlichung
- 15. Oktober 2008
- Erteilung
- 15. Oktober 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C16/455C23C16/40
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- IMEC
INTERUNIVERSITAIR MICROELEKTRONICA CENTRUM ( IMEC) - Land
- 🇧🇪 Belgien
🇧🇪
imec
Imec ist ein belgisches Forschungszentrum mit Sitz in Leuven, das auf Nanoelektronik, Halbleitertechnologie und digitale Technologien spezialisiert ist.
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