Lithografischer Apparat und steuerbare Mustererzeugungsvorrichtung unter Verwendung eines räumlichen Lichtmodulators mit verteilter Digital-Analog Umwandlung
EP1734409
Art A3
27. Dezember 2006
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1734409
- Aktenzeichen
- EP06252985
- Anmeldetag
- 9. Juni 2006
- Veröffentlichung
- 27. Dezember 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G02B26/00H01L21/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Slenders, Petrus Johannes Waltherus
Eindhoven, Niederlande
244
Patente gesamt
17
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Slenders, Petrus J. W
NoneEindhoven
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
Roberts, Peter David
NoneManchester