Verfahren zur Bearbeitung einem Substrat aus Nitrid-Halbleitermaterial
EP1736268
Art A3
24. Januar 2007
Anmelder: Sumitomo Electric Industries, Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1736268
- Aktenzeichen
- EP06011947
- Anmeldetag
- 9. Juni 2006
- Veröffentlichung
- 24. Januar 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B23H9/00H01L21/304
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Sumitomo Electric Industries, Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Sumitomo Electric Industries
Japanischer Technologiekonzern mit Sitz in Osaka, Teil der Sumitomo-Gruppe. Aktiv in Kabel- und Glasfasertechnologie, Halbleitern, Automobilkomponenten sowie Elektronik- und Werkstofftechnik.
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