Positivresistformulierung zur Tauchbeanspruchung und Verfahren zur Bildung eines Resistmusters
EP1736827
Art A1
27. Dezember 2006
Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1736827
- Aktenzeichen
- EP05720175
- Anmeldetag
- 7. März 2005
- Veröffentlichung
- 27. Dezember 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/039G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Ohka Kogyo
Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.
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Fachgebiete
Vertreten von
Perin, Georges
Paris, Frankreich
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