Photoresistmonomer, dessen Polymer und diesen enthaltende Fotolackzusammensetzung

EP1736828 Art B1 24. November 2010

Anmelder: DONGJIN SEMICHEM CO., LTD 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1736828
Aktenzeichen: EP06012870
Anmeldetag: 22. Juni 2006
Veröffentlichung: 24. November 2010
Erteilung: 24. November 2010
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/039C07C69/54C08F220/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: DONGJIN SEMICHEM CO., LTD
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Dongjin Semichem

Der Anmelder ist ein südkoreanischer Hersteller von Chemikalien für die Halbleiter- und Displayindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und Elektrobauelemente sowie auf Klebstoffe, Optik und Kunststofftechnik, insbesondere Fotoresists und Materialien für Dünnschichtprozesse. Anmeldungen laufen seit dem Jahr 2000 durchgehend fort.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

Vertreten von