Lithografischer Apparat und Herstellungsverfahren einer Vorrichtung
EP1736830
Art B1
13. Januar 2010
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1736830
- Aktenzeichen
- EP06076204
- Anmeldetag
- 9. Juni 2006
- Veröffentlichung
- 13. Januar 2010
- Erteilung
- 13. Januar 2010
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20H01L21/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Raukema, Age
Veldhoven, Niederlande
119
Patente gesamt
19
Fachgebiete
6
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Doolaar, Frans
NoneEnschede
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
van Loon, C.J.J
NoneDen Haag