Ein Substratverarbeitungssystem und ein Substratverarbeitungsverfahren

EP1737022 Art B1 19. Dezember 2007

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1737022
Aktenzeichen
EP06011214
Anmeldetag
31. Mai 2006
Veröffentlichung
19. Dezember 2007
Erteilung
19. Dezember 2007
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/00G03F7/20G06F19/00
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
TOKYO ELECTRON LIMITED
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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