Korrekturlinsen-System für ein Partikelstrahl-Projektionsgerät
EP1738391
Art B1
25. Mai 2011
Anmelder: Vistec Electron Beam GmbH, Leica Microsystems Lithography GmbH 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1738391
- Aktenzeichen
- EP05716781
- Anmeldetag
- 24. Februar 2005
- Veröffentlichung
- 25. Mai 2011
- Erteilung
- 25. Mai 2011
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J37/317H01J37/30
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Vistec Electron Beam GmbH
Leica Microsystems Lithography GmbH - Land
- 🇩🇪 Deutschland
Fachgebiete
Vertreten von
Freitag, Joachim
Jena, Deutschland
93
Patente gesamt
22
Fachgebiete
7
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Oehmke, Volker
NoneJena
-
Bertram, Helmut
NoneJena