Messvorrichtung für Lithographie und entsprechendes Messverfahren

EP1739493 Art B1 20. Februar 2019

Anmelder: ASML Netherlands BV 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1739493
Aktenzeichen
EP06253180
Anmeldetag
20. Juni 2006
Veröffentlichung
20. Februar 2019
Erteilung
20. Februar 2019
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20G02B6/00G01B11/00H01L21/00
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ASML Netherlands BV
Land
🇳🇱 Niederlande

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
Vertreten von
Van den Hooven, Jan Veldhoven, Niederlande
677
Patente gesamt
18
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Nachrichtentechnik & Telekommunikation Elektrische Energietechnik Anzeige-, Signal- & Kontrolltechnik
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