Polierstück für einen Halbleiterwafer, Polier-Mehrschichtkörper für einen Halbleiterwafer damit und Verfahren zum Polieren eines Halbleiterwafers

EP1739729 Art B1 28. März 2012

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1739729
Aktenzeichen: EP04729301
Anmeldetag: 23. April 2004
Veröffentlichung: 28. März 2012
Erteilung: 28. März 2012
Rechtsraum: EP
IPC: B24B37/04

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

1.781 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von