Substrat-Reinigungsverfahren und Substrat-Reinigungsgerät

EP1739730 Art B1 17. Oktober 2012

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1739730
Aktenzeichen: EP05734750
Anmeldetag: 19. April 2005
Veröffentlichung: 17. Oktober 2012
Erteilung: 17. Oktober 2012
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/67// B08B3/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verfahrens- & Trenntechnik

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