Verfahren und Vorrichtung zur Bildung eines Oxynitridfilms und eines Nitridfilms, Oxynitridfilm, Nitridfilm und Basismaterial
EP1739732
Art A1
3. Januar 2007
Anmelder: SEKISUI CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1739732
- Aktenzeichen
- EP05727499
- Anmeldetag
- 25. März 2005
- Veröffentlichung
- 3. Januar 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/318H01L21/31
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SEKISUI CHEMICAL CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Sekisui Chemical
Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Osaka, tätig in den Bereichen Hochleistungskunststoffe, Bauelemente und elektronische Materialien.
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Fachgebiete
Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München