Siloxanepoxid-Polymere für Anwendungen mit Niedriger Dielektrizitätskonstante
EP1740641
Art A2
10. Januar 2007
Anmelder: Polyset Company, Inc., RENSSELAER POLYTECHNIC INSTITUTE, Ghoshal, Ramkrishna, Wang, Pei-I, Lu, Toh-Ming, Murarka, Shyam P. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1740641
- Aktenzeichen
- EP05760425
- Anmeldetag
- 25. April 2005
- Veröffentlichung
- 10. Januar 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C08G77/04
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Polyset Company, Inc.
RENSSELAER POLYTECHNIC INSTITUTE
Ghoshal, Ramkrishna
Wang, Pei-I
Lu, Toh-Ming
Murarka, Shyam P. - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Rensselaer Polytechnic Institute
Das Rensselaer Polytechnic Institute ist eine private technische Universität mit Sitz in Troy, New York, und eine der ältesten technischen Hochschulen der USA. Das Patentportfolio streut breit über Medizintechnik, Halbleiter und Mess- und Prüftechnik, mit weiteren Anmeldungen in Pharma, Kunststofftechnik und Software. Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2025 ab.
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