Filmbildungsvorrichtung und Filmbildungsverfahren

EP1741802 Art B1 21. August 2013

Anmelder: Ohmi, Tadahiro, TOKYO ELECTRON LIMITED, OHMI, Tadahiro 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1741802
Aktenzeichen
EP05727877
Anmeldetag
29. März 2005
Veröffentlichung
21. August 2013
Erteilung
21. August 2013
Rechtsraum
EP
IPC
C23C14/24C23C14/12C23C16/448H05B33/10H05B33/28
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
Ohmi, Tadahiro
TOKYO ELECTRON LIMITED
OHMI, Tadahiro
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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