Beseitigung von durch eine Strahlungsquelle Erzeugten Teilchen
EP1743221
Art B1
6. Januar 2016
Anmelder: Philips Intellectual Property & Standards GmbH, Koninklijke Philips N.V., ASML Netherlands B.V., Koninklijke Philips Electronics N.V. 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1743221
- Aktenzeichen
- EP05709038
- Anmeldetag
- 18. März 2005
- Veröffentlichung
- 6. Januar 2016
- Erteilung
- 6. Januar 2016
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20H05G2/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Philips Intellectual Property & Standards GmbH
Koninklijke Philips N.V.
ASML Netherlands B.V.
Koninklijke Philips Electronics N.V. - Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇳🇱
Philips
Niederländisches Technologieunternehmen mit Sitz in Amsterdam, spezialisiert auf Medizintechnik, Diagnosegeräte, Patientenüberwachung sowie Gesundheits- und Wellnessprodukte.
43.499 Patente in unserer Datenbank
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Weitere Vertreter
-
Verweij, Petronella Daniëlle
NoneEindhoven
-
Volmer, Georg
NoneAachen