Verfahren zur Herstellung von Glasbasismaterial für Lichtleitfasern
EP1743874
Art A1
17. Januar 2007
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Company, Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1743874
- Aktenzeichen
- EP05720271
- Anmeldetag
- 8. März 2005
- Veröffentlichung
- 17. Januar 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C03B37/018
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Company, Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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