Vorrichtung zur Herstellung von Gas, Gefäss zur Zuführung von Gas und Gas für den Einsatz bei der Herstellung von Elektronischen Vorrichtungen
EP1744092
Art A1
17. Januar 2007
Anmelder: Zeon Corporation, OHMI, Tadahiro, ZEON CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1744092
- Aktenzeichen
- EP05719181
- Anmeldetag
- 16. Februar 2005
- Veröffentlichung
- 17. Januar 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C8/02F17C1/10C23C4/10C23C8/16C23C8/18C23C30/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Zeon Corporation
OHMI, Tadahiro
ZEON CORPORATION - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Zeon
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Zeon Corporation entwickelt synthetische Kautschuke, Spezialchemikalien und Elastomere für Anwendungen in Automobil-, Elektronik- und Batterieindustrie.
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Vertreten von
Albrecht, Thomas
München, Deutschland
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