Träger, lithographisches Verfahren mit Mehrfachbelichtung, Speichermedium mit Computerprogramm
EP1744211
Art A1
17. Januar 2007
Anmelder: ASML Netherlands BV 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1744211
- Aktenzeichen
- EP06253492
- Anmeldetag
- 4. Juli 2006
- Veröffentlichung
- 17. Januar 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands BV
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML Netherlands
ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.
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Fachgebiete
Vertreten von
Leeming, John Gerard
London, Großbritannien
2.212
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