Verfahren zur Bildung eines Films aus Organischem Siliciumoxid, Film aus Organischem Siliciumoxid, Verdrahtungsstruktur und Halbleitervorrichtung
EP1746122
Art B1
12. Juni 2013
Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1746122
- Aktenzeichen
- EP05737244
- Anmeldetag
- 28. April 2005
- Veröffentlichung
- 12. Juni 2013
- Erteilung
- 12. Juni 2013
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C08G77/50C08G77/42C08L83/14C09D183/14H01B3/46H01L21/312C08J3/28C08L83/04
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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