Verfahren zur Bildung eines Films aus Organischem Siliciumoxid, Film aus Organischem Siliciumoxid, Verdrahtungsstruktur und Halbleitervorrichtung

EP1746122 Art B1 12. Juni 2013

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1746122
Aktenzeichen
EP05737244
Anmeldetag
28. April 2005
Veröffentlichung
12. Juni 2013
Erteilung
12. Juni 2013
Rechtsraum
EP
IPC
C08G77/50C08G77/42C08L83/14C09D183/14H01B3/46H01L21/312C08J3/28C08L83/04
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
JSR Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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